全自動型等離子體化學(xué)氣相淀積臺(PECVD-801)

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地北京市

在線詢價收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

包裝印刷網(wǎng)采購部電話：0571-88918531QQ:2568841715

聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式

更新時間：2023-07-03 09:30:41瀏覽次數(shù)：188次

聯(lián)系我時，請告知來自包裝印刷網(wǎng)

暫無信息

北京金盛微納科技有限公司

經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：27條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林平

詢價 給他留言

產(chǎn)品簡介

詳細(xì)描述本設(shè)備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證

詳細(xì)介紹

詳細(xì)描述

本設(shè)備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。

本設(shè)備的數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺。

本產(chǎn)品通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點保護(hù)等設(shè)計，結(jié)合各種硬保護(hù)裝置、使設(shè)備的安全性、可靠性得到有效保證。

本設(shè)備主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造，以及能源材料、機(jī)械材料，各種無機(jī)材料及高分子材料的薄膜制備和表面改性。

產(chǎn)品主要性能指標(biāo)

型號	PECVD-801
淀積室數(shù)量	單室
淀積室規(guī)格	?400×150mm
樣片臺尺寸	?290mm（熱均勻區(qū)?220mm）
加熱溫度	≤ 300℃
淀積材料	SiO₂、Si₃N₄、非晶硅、碳化硅、類金剛石等
淀積速率	200 - 300 ?/min （與淀積材料和工藝有關(guān)）
淀積不均勻性	≤ ±5%
自動化程度	真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動化控制。
人機(jī)界面	Windows環(huán)境、觸摸屏操作
操作方式	全自動方式、非全自動方式
自動化裝置的選配	可選擇進(jìn)口件或國產(chǎn)件