iPHEMOS-MP倒置發(fā)射顯微鏡是一種半導(dǎo)體故障分析系統(tǒng)，旨在通過(guò)檢測(cè)發(fā)出的光和熱來(lái)識(shí)別故障位置。

iPHEMOS-MP利用其倒置型設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)，在探測(cè)時(shí)對(duì)半導(dǎo)體器件進(jìn)行背面分析，并結(jié)合LSI測(cè)試儀順利運(yùn)行各種類型的分析。

iPHEMOS-MP包括激光掃描系統(tǒng)，用于獲取高分辨率的圖案圖像。

通過(guò)選擇針對(duì)分析方法優(yōu)化的檢測(cè)器，可以執(zhí)行不同類型的分析，例如排放分析，熱分析和IR-OBIRCH分析。 當(dāng)與用于背面觀察的專用探測(cè)器結(jié)合使用時(shí)，iPHEMOS-MP支持從晶圓到單個(gè)芯片的靈活測(cè)量。

- 可安裝兩個(gè)超高靈敏度攝像頭：

用于發(fā)射分析和熱分析或可見光和近紅外光的不同檢測(cè)波長(zhǎng)范圍的覆蓋范圍允許容易地選擇與樣品和失效模式 匹配的分析技術(shù)。

- 最多可安裝3個(gè)波長(zhǎng)的激光器和用于EOP的探頭光源

- 適用于各種樣品的光學(xué)平臺(tái)

光學(xué)平臺(tái)的工作范圍

X +/- 50mm

Y +/- 50mm

Z +/- 20mm

*由于使用探針并干擾樣品臺(tái)或安裝NanoLens，工作范圍可能比此值窄。